一、按涂布方式分類

1. 刮刀涂布（Blade Coating）

• 原理：通過將基材薄膜穿過涂布槽，使表面附著一定量的涂料，再用金屬或塑料刮刀刮去多余涂料，控制涂層厚度。

• 特點(diǎn)：

• 設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單，成本較低，適合大面積涂布。

• 可通過調(diào)整刮刀角度、壓力和與基材的間距，精確控制涂層厚度（通常在 1-50μm）。

• 對涂料的粘度適應(yīng)性較強(qiáng)，但高粘度涂料易導(dǎo)致涂層不均勻。

• 適用場景：中低粘度離型劑（如硅油）的涂布，常用于 PET、PE 基材的單面或雙面離型膜生產(chǎn)。

2. 網(wǎng)紋輥涂布（Anilox Coating）

• 原理：利用表面帶有均勻網(wǎng)穴的網(wǎng)紋輥（金屬或陶瓷材質(zhì)）蘸取涂料，再通過橡膠輥將網(wǎng)穴中的涂料轉(zhuǎn)移到基材表面。

• 特點(diǎn)：

• 涂層厚度由網(wǎng)紋輥的網(wǎng)穴深度和密度決定，精度高（可控制在 0.5-20μm），均勻性好。

• 適合低粘度涂料，且涂布速度快，生產(chǎn)效率高。

• 網(wǎng)紋輥需定期清洗，避免網(wǎng)穴堵塞影響涂布效果。

• 適用場景：要求涂層薄且均勻的離型膜，如電子行業(yè)用高精度離型膜。

3. 凹版涂布（Gravure Coating）

• 原理：類似網(wǎng)紋輥涂布，但凹版輥的圖案（網(wǎng)穴）可根據(jù)需求定制，通過刮刀刮去輥面多余涂料，*保留網(wǎng)穴內(nèi)的涂料轉(zhuǎn)移到基材。

• 特點(diǎn)：

• 能實(shí)現(xiàn)復(fù)雜圖案或局部涂布，涂層厚度控制**（0.1-50μm）。

• 適合高粘度涂料，且對基材的適應(yīng)性強(qiáng)（如薄型 PET、OPP 膜）。

• 設(shè)備成本較高，適合批量生產(chǎn)。

• 適用場景：需要局部離型處理或特殊圖案的離型膜，如標(biāo)簽用離型膜。

4. 微凹涂布（Micro Gravure Coating）

• 原理：采用小直徑（通常 10-50mm）的凹版輥，配合反向轉(zhuǎn)動的橡膠壓輥，實(shí)現(xiàn)極薄涂層的均勻涂布。

• 特點(diǎn)：

• 涂層厚度可低至 0.1μm 以下，適合高精度、超薄離型層（如光學(xué)級離型膜）。

• 對基材的張力控制要求高，避免褶皺或拉伸變形。

• 適用場景：光學(xué)膜、電子元件保護(hù)用離型膜等對涂層均勻性要求極高的領(lǐng)域。

5. 浸涂（Dip Coating）

• 原理：將基材薄膜完全浸入涂料槽中，通過控制基材的提拉速度和涂料粘度，使表面附著一層涂料。

• 特點(diǎn)：

• 操作簡單，適合雙面涂布，但涂層厚度均勻性較差，易產(chǎn)生邊緣積液。

• 對涂料消耗量較大，效率較低。

• 適用場景：小批量、低精度的離型膜生產(chǎn)，或特殊形狀基材的涂布。

二、按涂料狀態(tài)分類

1. 溶劑型涂布

• 原理：將離型劑（如硅油）溶解于有機(jī)溶劑（如甲苯、二甲苯）中，形成低粘度涂料，涂布后通過烘箱揮發(fā)溶劑，固化成膜。

• 特點(diǎn)：

• 涂料流動性好，涂布均勻性高，適合各種基材。

• 需配備溶劑回收裝置，環(huán)保要求較高，且存在安全隱患（易燃）。

• 適用場景：傳統(tǒng)離型膜生產(chǎn)，如膠帶用 PET 離型膜。

2. 水性涂布

• 原理：以水為溶劑，將離型劑（如水性硅油）分散成乳液，涂布后通過高溫烘干水分，固化成膜。

• 特點(diǎn)：

• 環(huán)保性好，無有機(jī)溶劑揮發(fā)，安全性高。

• 對烘箱溫度要求較高（需快速蒸發(fā)水分），可能影響基材的耐熱性（如 PE 膜）。

• 適用場景：環(huán)保要求嚴(yán)格的領(lǐng)域，如食品包裝、醫(yī)療用離型膜。

3. 無溶劑涂布

• 原理：直接使用 100% 固含量的離型劑（如紫外光固化硅油），通過特殊設(shè)備涂布后，經(jīng) UV 照射或熱固化成膜。

• 特點(diǎn)：

• 無溶劑揮發(fā)，環(huán)保性**，涂層厚度控制**。

• 設(shè)備投資高，對離型劑的粘度和固化速度要求嚴(yán)格。

• 適用場景：高精度、高環(huán)保要求的離型膜，如光學(xué)膠（OCA）用離型膜。

三、特殊涂布工藝

1. 雙面同步涂布

• 原理：通過兩套**的涂布系統(tǒng)，在基材兩面同時涂布離型劑，一次完成雙面處理。

• 特點(diǎn)：

• 生產(chǎn)效率高，避免二次涂布導(dǎo)致的基材變形。

• 對設(shè)備精度要求高，需保證兩面涂層厚度一致。

• 適用場景：雙面離型膜生產(chǎn)，如雙面膠帶基材。

2. 等離子體涂布

• 原理：無需傳統(tǒng)涂料，通過等離子體處理基材表面，改變其表面能，形成離型層（如氟碳化合物等離子體聚合）。

• 特點(diǎn)：

• 涂層極薄（納米級），附著力強(qiáng)，耐溫性好。

• 設(shè)備成本高，適合對離型性能要求極高的特殊領(lǐng)域（如航天、半導(dǎo)體）。